苹果获屏下FaceID专利 或2026年应用于iPhone18系列

苹果公司近期获得了一项关于屏下Face ID的重要专利，这一突破性进展为未来iPhone实现真正的全面屏设计扫清了又一大障碍。根据专利文件显示，苹果此次的解决方案主要针对屏下Face ID所需的红外光透光率问题。为了提高透光效果，苹果创新性地提出移除OLED面板上相同颜色的相邻子像素，使得红外光能够顺利穿透屏幕。值得注意的是，移除的子像素并不会影响用户的视觉体验，因为苹果通过借用相邻子像素并进行颜色混合，确保了屏幕整体显示效果的一致性和高清晰度。

尽管这项技术取得了显著进展，但目前的技术条件仍无法将Face ID系统中的红外摄像头、点阵投影器等关键组件完全隐藏到屏幕下方。因此，短期内iPhone可能只能缩短“药丸”区域，而无法实现完全隐藏。据业内人士推测，这套创新的屏下Face ID方案最快有望在2026年的iPhone 18系列上得到应用，届时iPhone 18系列将采用单挖孔屏设计，告别现有的药丸屏形态。

此外，苹果还在积极推进其他方面的技术创新。据报道，苹果正在为MacPro打造代号为“Hidra”的高端芯片，其性能预计将超越M4Ultra，成为苹果迄今为止最强的处理器。这款芯片预计将在未来的MacPro中使用，带来前所未有的高性能和高售价。

综合近期的消息来看，苹果正面临市场压力，需要在智能手机和电脑端推出更多创新产品以保持竞争力。无论是全面屏设计还是极限性能的提升，都显示出苹果致力于不断改进用户体验的决心。对于期待这些新技术的用户来说，未来的苹果产品无疑充满了吸引力。